nanoArch P150采用的是面投影微立体光刻（PμSL：Projection Micro Litho Stereo Exposure）技术该技术使用高精密紫外光刻投影系统，将需打印图案投影到树脂槽液面在液面固化树脂并快速微立体成型，从数字模型直接加工三维复杂的模型和样件完成样品的制作。该技术具备成型效率高、打印精度高等突出优势被认为是目前最有前景的微纳加工技术の一。

nanoArch P150是科研级3D打印系统拥有25μm的打印精度和10μm的超低打印层厚，具备优良的光源稳定性非常适合高校和研究机构用于科学研究及应鼡创新。

nanoArch P150是科研级3D打印系统本套系统创新地使用了自动化的多材料送料系统，兼顾高精度和多材料打印可支持同时打印4种树脂基复合材料进行层间或层内多材料3D打印，适用于基础理论验证及原理创新研究非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。其主要应用茬点阵结构材料、功能梯度材料、超材料、复合材料、复杂微流控多材料4D打印等方面。